隨著(zhù)近幾年國家對知識產(chǎn)權的重視，國內的企業(yè)專(zhuān)利申請量明顯大幅度增加，但是不少企業(yè)在專(zhuān)利申請過(guò)程中仍存在誤區。

　　誤區一 技術(shù)方案交待不清楚

　　很多人提交的專(zhuān)利申請文件非常簡(jiǎn)單，有的甚至只有幾句話(huà)，技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚，這給專(zhuān)利代理人制作正式專(zhuān)利申請文件帶來(lái)很大困難。

　　在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí)，他們會(huì )以技術(shù)保密為由回避。

　　這些發(fā)明人其實(shí)就是沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度。

　　他們過(guò)度地要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰是這種“過(guò)度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚，公開(kāi)不充分的問(wèn)題。

　　誤區二 專(zhuān)利申請前不做任何檢索

　　有些發(fā)明人提交的專(zhuān)利申請文件沒(méi)有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定。

　　甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒(méi)有公開(kāi)過(guò)或公開(kāi)使用過(guò)，這也是一個(gè)非常普遍的現象。

　　全世界范圍內的任何文獻都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面，只有國內的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。

　　誤區三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專(zhuān)利

　　有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒(méi)有想到先申請專(zhuān)利保護。

　　由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內容，使專(zhuān)利申請失去新穎性而得不到保護。

　　誤區四 對專(zhuān)利缺乏有效的管理

　　有些企業(yè)申請了很多專(zhuān)利，但無(wú)專(zhuān)人管理。

　　專(zhuān)利文件之間有的互相沖突，有的已無(wú)市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費。

　　有的專(zhuān)利權已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專(zhuān)利特征不了解，不能及時(shí)提起訴訟。

　　誤區五 缺乏長(cháng)遠的專(zhuān)利戰略規劃

　　有計劃地實(shí)施專(zhuān)利戰略對企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要，可以避免時(shí)間和精力的浪費。

　　一些企業(yè)毫無(wú)目的的申請大量專(zhuān)利，結果導致授權率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專(zhuān)利，浪費時(shí)間和精力。

　　一個(gè)企業(yè)應該對自己行業(yè)內的基本專(zhuān)利狀況及外圍專(zhuān)利狀況有十分明確的認識。

　　從而找到技術(shù)突破口，排除他人專(zhuān)利障礙，確立自己的專(zhuān)利優(yōu)勢，贏(yíng)得市場(chǎng)競爭。

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